什么是EMI A405igF 4 K$ J: ?6 l: ~& P# L
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电磁兼容性（Electromagnetic Compatibility）缩写EMC，就是指某电子设备既不干扰其它设备，同时也不受其它设备的影响。电磁兼容性和我们所熟悉的安全性一样，是产品质量最重要的指标之一。安全性涉及人身和财产，而电磁兼容性则涉及人身和环境保护。 aKW-(5<JW
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1 Q6 j, |" l1 k3 |: Z2 V1 z( O 电磁波会与电子元件作用，产生干扰现象，称为EMI（Electromagnetic Interference）。例如，TV荧光屏上常见的“雪花”便表示接受到的讯号被干扰。 1l)j(,Zd*
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7 I5 V* E7 L3 m1 E7 \! L, n' }& [EMI溅射镀膜的原理 j< h1s%
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R8 R' }- L. c0 c0 x* _原理说明： *"_W1}^
- R" k+ }* p( y1. 在高度真空状态下，充入适量氩气； _\\IA[-C+O
/ [6 S0 f7 ? n4 ^' j, e2. 施以高压直流电，将氩气电离成氩离子，加速撞击金属靶材，溅射出金属离子； E83$(6z
+ ~ _5 v8 P8 x% V4 j' i3. 金属离子在电场中加速溅射在基材（塑壳）上，形成金属离子薄膜。 ~eP~c"L % I( j/ n( b/ K3 T+ x3 j
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) g* {1 z" h+ M+ U; |真空溅镀EMI的应用范围 Ux^ue9
) h+ }( K& P$ A0 U4 Q# m 真空溅镀EMI具有高导电性和高电磁屏蔽效率等特点，广泛应用于通讯制品(移动电话)、电脑(笔记本)、便携式电子产品、消费电子、网络硬件(服务器等)、医疗仪器、家用电子产品和航空航天及国防等电子设备的EMI屏蔽。 n?6^j8i 0 X. z7 N# _3 j6 |+ W( R' C
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+ T2 \' ?7 L+ ?4 d# @) W( E5 i 适用于各种塑胶制品的金属屏蔽（PC、PC+ABS、ABS等）。 DsxNg
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EMI溅射镀膜的特点 Z;+;_Cw
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真空技术是结合机械、电机、材料、化工和航太等技术发展出来的产业，亦是目前我国与美、日等国极力推动之十大新兴产业之一。真空技术应用范围日趋广泛，运用对象包括光电、半导体和LCD产业等，近年来尤其在光电、IC和LCD等产业之制造设备，更是成长迅速。 r&v!2A]:
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0 E- X/ _: w& I& n2 f0 Z. PEMI溅射镀膜具有以下特点： 46l*ui_ 1 M* T8 q) ]* |
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价格低（国内拥有自主知识产权的话）。 %>zG;4 ' p+ T9 [$ C! h- q7 l
真空溅射加工的金属薄膜厚度只有0.5～2μm，绝对不影响装配。 nip*Y@-F
$ T' K7 B3 d+ p7 n5 @5 x! ~! n真空溅射是彻底的环保制程，绝对环保无污染。 _E0yzkS
) l/ P* ?( k$ X5 ?8 Q7 \欲溅射材料无限制, 任何常温固态导电金属及有机材料、绝缘材料皆可使用（例：铜、铬、银、金、不锈钢、铝、氧化矽SiO2等）。 =*-a c
/ }# ?+ { y# F. N5 ?4 _被溅射基材几无限制（ABS、PC、PP、PS、玻璃、陶瓷、epoxy resin等）。 6 AY~>p
+ K1 j0 o y' U$ \9 h. P8 L膜质致密均匀、膜厚容易控制。 [<^'}-SJ # u, G, W: B- @' }" t& m
附著力强（ASTM3599方法测试4B）。 e&(Wn2)o
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# B4 `( L; Z. ?( H可同时搭配多种不同溅射材料之多层膜。并且，可随客户指定变换镀层次序. ~S :8M<aB |
显身卡
