什么是EMI A405igF
" B8 |5 L4 r3 s. `9 `9 t4 O, J% de}{#VB< 2 c1 F' O7 B0 o+ L$ T
电磁兼容性(Electromagnetic Compatibility)缩写EMC,就是指某电子设备既不干扰其它设备,同时也不受其它设备的影响。电磁兼容性和我们所熟悉的安全性一样,是产品质量最重要的指标之一。安全性涉及人身和财产,而电磁兼容性则涉及人身和环境保护。 aKW-(5<JW 7 O+ T, a+ U9 g' D2 u' C
c ZYvP " U- r3 F/ ~5 A" X( [ x
电磁波会与电子元件作用,产生干扰现象,称为EMI(Electromagnetic Interference)。例如,TV荧光屏上常见的“雪花”便表示接受到的讯号被干扰。 1l)j(,Zd* ; c2 X' z5 Y: q9 O: g9 A* N# l- R
u!~kmIa4 $ v- M+ f) C5 L( B8 _2 c, S
EMI溅射镀膜的原理 j< h1s% 8 t# m# ?& ^( |) c) }6 r; O+ V
o` QH8 . A) w% N8 f. {/ x) q
原理说明: *"_W1}^ & s* K& _* T$ T* v9 i
1. 在高度真空状态下,充入适量氩气; _\\IA[-C+O
/ e8 P% [/ K3 q( u2. 施以高压直流电,将氩气电离成氩离子,加速撞击金属靶材,溅射出金属离子; E83$(6z
# X6 f( D0 J6 L3. 金属离子在电场中加速溅射在基材(塑壳)上,形成金属离子薄膜。 ~eP~c"L : W* i: w, E) |1 H# u3 D, G
&?p( UY7'"
" u2 K3 I4 N1 `, k; L6 J- S* LX7K{P_5l 7 @1 s! P# b# {' N* N
真空溅镀EMI的应用范围 Ux^ue9
" M% u9 n f! Q 真空溅镀EMI具有高导电性和高电磁屏蔽效率等特点,广泛应用于通讯制品(移动电话)、电脑(笔记本)、便携式电子产品、消费电子、网络硬件(服务器等)、医疗仪器、家用电子产品和航空航天及国防等电子设备的EMI屏蔽。 n?6^j8i
0 S$ f5 k9 N! h5 c) PhJ%$Te
, k4 b2 b* ~4 e* e3 _ | 适用于各种塑胶制品的金属屏蔽(PC、PC+ABS、ABS等)。 DsxNg ! k f! b U/ r5 F
`%Kj+^|DS & k( _0 k8 q# J
EMI溅射镀膜的特点 Z;+;_Cw * m1 ?* H \; L: d/ ]# U/ V7 U$ ]
4Hyp]07 1 o% S* F% _6 J \' N! K2 g* D
真空技术是结合机械、电机、材料、化工和航太等技术发展出来的产业,亦是目前我国与美、日等国极力推动之十大新兴产业之一。真空技术应用范围日趋广泛,运用对象包括光电、半导体和LCD产业等,近年来尤其在光电、IC和LCD等产业之制造设备,更是成长迅速。 r&v!2A]:
2 R8 k( k' [% ~6 H* F) HY@UW\\d*'%I
3 b4 D s2 d8 f! Z8 kEMI溅射镀膜具有以下特点: 46l*ui_
' L* h& u- z5 n+ W4 N/ muj%]+Llxv / \/ A& [/ C* o% a
价格低(国内拥有自主知识产权的话)。 %>zG;4
, R4 \- i |9 `% D! H& N$ T8 Z真空溅射加工的金属薄膜厚度只有0.5~2μm,绝对不影响装配。 nip*Y@-F % `& v& C! _' ]+ H$ n" G5 `7 b+ {! M
真空溅射是彻底的环保制程,绝对环保无污染。 _E0yzkS ( q/ C" U( [# `. c0 F: z( U$ Q+ `1 h
欲溅射材料无限制, 任何常温固态导电金属及有机材料、绝缘材料皆可使用(例:铜、铬、银、金、不锈钢、铝、氧化矽SiO2等)。 =*-a c 9 z( |% l6 u7 S. r+ E
被溅射基材几无限制(ABS、PC、PP、PS、玻璃、陶瓷、epoxy resin等)。 6 AY~>p
- O0 ^5 J- B1 _( h膜质致密均匀、膜厚容易控制。 [<^'}-SJ + k [: D0 s. A' W( M
附著力强(ASTM3599方法测试4B)。 e&(Wn2)o
+ _" i' x1 N A2 q, ]5 L! }. VMz) r'
* X" C9 r+ ^5 C% l& R4 `可同时搭配多种不同溅射材料之多层膜。并且,可随客户指定变换镀层次序. ~S :8M<aB |