什么是EMI A405igF 0 J J5 F3 t& D1 s
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2 x& \) z9 V( y* F. r 电磁兼容性（Electromagnetic Compatibility）缩写EMC，就是指某电子设备既不干扰其它设备，同时也不受其它设备的影响。电磁兼容性和我们所熟悉的安全性一样，是产品质量最重要的指标之一。安全性涉及人身和财产，而电磁兼容性则涉及人身和环境保护。 aKW-(5<JW 3 M0 q1 O( j& O3 D* F- F, @
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, |6 o( T0 X: N3 u, x/ j 电磁波会与电子元件作用，产生干扰现象，称为EMI（Electromagnetic Interference）。例如，TV荧光屏上常见的“雪花”便表示接受到的讯号被干扰。 1l)j(,Zd*
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EMI溅射镀膜的原理 j< h1s% $ l3 j& }. B# [
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原理说明： *"_W1}^
- W$ y5 a5 l1 Q' o8 L1. 在高度真空状态下，充入适量氩气； _\\IA[-C+O
: [3 [/ G% g: C1 ]0 R7 F/ R( s2. 施以高压直流电，将氩气电离成氩离子，加速撞击金属靶材，溅射出金属离子； E83$(6z
- b% ~6 v0 G2 g* O3. 金属离子在电场中加速溅射在基材（塑壳）上，形成金属离子薄膜。 ~eP~c"L
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真空溅镀EMI的应用范围 Ux^ue9
* f8 w! e ?2 M7 F( U, f2 M 真空溅镀EMI具有高导电性和高电磁屏蔽效率等特点，广泛应用于通讯制品(移动电话)、电脑(笔记本)、便携式电子产品、消费电子、网络硬件(服务器等)、医疗仪器、家用电子产品和航空航天及国防等电子设备的EMI屏蔽。 n?6^j8i # R5 J& H2 r9 B/ D" r
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适用于各种塑胶制品的金属屏蔽（PC、PC+ABS、ABS等）。 DsxNg # ~# d/ G+ ]6 G, \9 `% F Z- V9 G
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! a% O/ h) x$ E1 b; R4 BEMI溅射镀膜的特点 Z;+;_Cw
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; s' v" \0 R, ]% q5 x 真空技术是结合机械、电机、材料、化工和航太等技术发展出来的产业，亦是目前我国与美、日等国极力推动之十大新兴产业之一。真空技术应用范围日趋广泛，运用对象包括光电、半导体和LCD产业等，近年来尤其在光电、IC和LCD等产业之制造设备，更是成长迅速。 r&v!2A]: 7 x' S% k0 j% k+ k
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EMI溅射镀膜具有以下特点： 46l*ui_
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价格低（国内拥有自主知识产权的话）。 %>zG;4 4 m& t$ b3 H. L5 L: Q
真空溅射加工的金属薄膜厚度只有0.5～2μm，绝对不影响装配。 nip*Y@-F ( z1 B& H) q3 m6 {, e O
真空溅射是彻底的环保制程，绝对环保无污染。 _E0yzkS 4 F# B1 Z. X4 J' o- ~! O
欲溅射材料无限制, 任何常温固态导电金属及有机材料、绝缘材料皆可使用（例：铜、铬、银、金、不锈钢、铝、氧化矽SiO2等）。 =*-a c
! x6 d& W0 _) r: x" Z/ F被溅射基材几无限制（ABS、PC、PP、PS、玻璃、陶瓷、epoxy resin等）。 6 AY~>p
3 c& [+ @* k% G2 X+ n膜质致密均匀、膜厚容易控制。 [<^'}-SJ 4 I+ t5 o* N5 _( h6 C
附著力强（ASTM3599方法测试4B）。 e&(Wn2)o ; Y" A8 b$ G$ y6 A, q' }
Mz) r' 4 C1 G$ H# X7 T9 p+ j1 q. \
可同时搭配多种不同溅射材料之多层膜。并且，可随客户指定变换镀层次序. ~S :8M<aB |
显身卡
