什么是EMI A405igF : f7 u. ~# z7 Z9 A
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电磁兼容性(Electromagnetic Compatibility)缩写EMC,就是指某电子设备既不干扰其它设备,同时也不受其它设备的影响。电磁兼容性和我们所熟悉的安全性一样,是产品质量最重要的指标之一。安全性涉及人身和财产,而电磁兼容性则涉及人身和环境保护。 aKW-(5<JW ! J7 n5 h" q# G! B6 E8 s+ ~
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电磁波会与电子元件作用,产生干扰现象,称为EMI(Electromagnetic Interference)。例如,TV荧光屏上常见的“雪花”便表示接受到的讯号被干扰。 1l)j(,Zd*
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0 F# I j! M9 t5 |+ I* u* EEMI溅射镀膜的原理 j< h1s%
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5 V) m, z# O# J9 x3 T原理说明: *"_W1}^ + q8 \! B1 x. b4 B" [! v) Z
1. 在高度真空状态下,充入适量氩气; _\\IA[-C+O
# N9 R: f' P- ?% Q2. 施以高压直流电,将氩气电离成氩离子,加速撞击金属靶材,溅射出金属离子; E83$(6z ( Q# z" ?% u: }, a) Q+ q6 P
3. 金属离子在电场中加速溅射在基材(塑壳)上,形成金属离子薄膜。 ~eP~c"L \# `! l, O; b9 z m; p" r
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真空溅镀EMI的应用范围 Ux^ue9 2 r* F7 d; @" A9 [$ p% v( Y
真空溅镀EMI具有高导电性和高电磁屏蔽效率等特点,广泛应用于通讯制品(移动电话)、电脑(笔记本)、便携式电子产品、消费电子、网络硬件(服务器等)、医疗仪器、家用电子产品和航空航天及国防等电子设备的EMI屏蔽。 n?6^j8i
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3 J$ y9 g8 }* C4 v- |" X) i 适用于各种塑胶制品的金属屏蔽(PC、PC+ABS、ABS等)。 DsxNg
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EMI溅射镀膜的特点 Z;+;_Cw % f- f; R3 K8 v0 e4 Q" E
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真空技术是结合机械、电机、材料、化工和航太等技术发展出来的产业,亦是目前我国与美、日等国极力推动之十大新兴产业之一。真空技术应用范围日趋广泛,运用对象包括光电、半导体和LCD产业等,近年来尤其在光电、IC和LCD等产业之制造设备,更是成长迅速。 r&v!2A]: 8 J @' U2 n) k7 Q" o1 L# \: o
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EMI溅射镀膜具有以下特点: 46l*ui_ $ o7 R- _) f N9 s
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9 M& x2 l9 ]/ Z& `' w价格低(国内拥有自主知识产权的话)。 %>zG;4 9 c; @: \; j' y. D$ R
真空溅射加工的金属薄膜厚度只有0.5~2μm,绝对不影响装配。 nip*Y@-F
3 w/ _9 ~# _& x; _- d- ~真空溅射是彻底的环保制程,绝对环保无污染。 _E0yzkS
! @$ c b' C. E欲溅射材料无限制, 任何常温固态导电金属及有机材料、绝缘材料皆可使用(例:铜、铬、银、金、不锈钢、铝、氧化矽SiO2等)。 =*-a c 8 ^' J1 m0 n) t. X6 H* X: {0 N
被溅射基材几无限制(ABS、PC、PP、PS、玻璃、陶瓷、epoxy resin等)。 6 AY~>p 6 B$ W4 P0 d1 Z% \; \3 v
膜质致密均匀、膜厚容易控制。 [<^'}-SJ 2 F% T4 m Q. I( y( ?4 }
附著力强(ASTM3599方法测试4B)。 e&(Wn2)o 0 J. `5 d! s1 o( R& g7 Z6 r; s- e
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! g+ [6 Z2 u$ y* T可同时搭配多种不同溅射材料之多层膜。并且,可随客户指定变换镀层次序. ~S :8M<aB |