什么是EMI A405igF ) K" h1 T# x' F# S
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电磁兼容性（Electromagnetic Compatibility）缩写EMC，就是指某电子设备既不干扰其它设备，同时也不受其它设备的影响。电磁兼容性和我们所熟悉的安全性一样，是产品质量最重要的指标之一。安全性涉及人身和财产，而电磁兼容性则涉及人身和环境保护。 aKW-(5<JW
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电磁波会与电子元件作用，产生干扰现象，称为EMI（Electromagnetic Interference）。例如，TV荧光屏上常见的“雪花”便表示接受到的讯号被干扰。 1l)j(,Zd*
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6 M$ l& x' H" QEMI溅射镀膜的原理 j< h1s% 0 Y+ E" {. V' v# V' E2 V3 \3 x
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原理说明： *"_W1}^ E& i) K4 P0 u7 Q2 y' L9 r4 x1 d
1. 在高度真空状态下，充入适量氩气； _\\IA[-C+O - g; S: x; a3 f( H
2. 施以高压直流电，将氩气电离成氩离子，加速撞击金属靶材，溅射出金属离子； E83$(6z
8 i% {7 P j* w- M- [4 Y3. 金属离子在电场中加速溅射在基材（塑壳）上，形成金属离子薄膜。 ~eP~c"L
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/ N$ O$ ]& X: ~真空溅镀EMI的应用范围 Ux^ue9 . H, I ~( J) d g
真空溅镀EMI具有高导电性和高电磁屏蔽效率等特点，广泛应用于通讯制品(移动电话)、电脑(笔记本)、便携式电子产品、消费电子、网络硬件(服务器等)、医疗仪器、家用电子产品和航空航天及国防等电子设备的EMI屏蔽。 n?6^j8i 4 }( X9 ]4 _9 b+ B- |' S
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适用于各种塑胶制品的金属屏蔽（PC、PC+ABS、ABS等）。 DsxNg $ S+ H3 @/ M7 [% t2 b( L/ s) e: \
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EMI溅射镀膜的特点 Z;+;_Cw , v) a: G' _. L3 K* i1 |0 F8 ~! M
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- I( ~- V' j* `/ R2 g 真空技术是结合机械、电机、材料、化工和航太等技术发展出来的产业，亦是目前我国与美、日等国极力推动之十大新兴产业之一。真空技术应用范围日趋广泛，运用对象包括光电、半导体和LCD产业等，近年来尤其在光电、IC和LCD等产业之制造设备，更是成长迅速。 r&v!2A]: : f, j" e- ?- x/ D- j$ x
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EMI溅射镀膜具有以下特点： 46l*ui_ * E$ M% L/ A' q5 k
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7 Y: d- W& c$ ]2 A0 Q$ W价格低（国内拥有自主知识产权的话）。 %>zG;4 $ t0 p0 s; {% V6 K8 K$ F- ?3 u
真空溅射加工的金属薄膜厚度只有0.5～2μm，绝对不影响装配。 nip*Y@-F
) o! R; u' V1 Q( O- e真空溅射是彻底的环保制程，绝对环保无污染。 _E0yzkS
}) V) U/ ~( e% s, k- n) q+ @欲溅射材料无限制, 任何常温固态导电金属及有机材料、绝缘材料皆可使用（例：铜、铬、银、金、不锈钢、铝、氧化矽SiO2等）。 =*-a c - s1 M# @) y0 L: j% u- `1 q2 B
被溅射基材几无限制（ABS、PC、PP、PS、玻璃、陶瓷、epoxy resin等）。 6 AY~>p 6 H( U4 ?' Y9 x1 i1 }1 A
膜质致密均匀、膜厚容易控制。 [<^'}-SJ 5 G3 S: W, D4 e
附著力强（ASTM3599方法测试4B）。 e&(Wn2)o
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& {6 @9 g @/ G可同时搭配多种不同溅射材料之多层膜。并且，可随客户指定变换镀层次序. ~S :8M<aB |
显身卡
