什么是EMI A405igF % H( r( d: @( @# u' }: ^
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9 O# B y5 `* O0 g' V0 X' y, G0 }% q 电磁兼容性（Electromagnetic Compatibility）缩写EMC，就是指某电子设备既不干扰其它设备，同时也不受其它设备的影响。电磁兼容性和我们所熟悉的安全性一样，是产品质量最重要的指标之一。安全性涉及人身和财产，而电磁兼容性则涉及人身和环境保护。 aKW-(5<JW , \ e: P. @$ j
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电磁波会与电子元件作用，产生干扰现象，称为EMI（Electromagnetic Interference）。例如，TV荧光屏上常见的“雪花”便表示接受到的讯号被干扰。 1l)j(,Zd* D- |: Z; J7 ~* n
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EMI溅射镀膜的原理 j< h1s%
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$ K6 d1 F' h2 c原理说明： *"_W1}^
* P, H9 b$ V0 @! D- c; o1. 在高度真空状态下，充入适量氩气； _\\IA[-C+O : h8 P" f5 |1 A$ F4 R ?, ?, w* G, y
2. 施以高压直流电，将氩气电离成氩离子，加速撞击金属靶材，溅射出金属离子； E83$(6z , s3 ]/ N1 h" D. C
3. 金属离子在电场中加速溅射在基材（塑壳）上，形成金属离子薄膜。 ~eP~c"L
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" m. I3 H( u0 k5 v8 V: f5 H真空溅镀EMI的应用范围 Ux^ue9
/ i- j1 B: F3 m. S: n" a. }- K 真空溅镀EMI具有高导电性和高电磁屏蔽效率等特点，广泛应用于通讯制品(移动电话)、电脑(笔记本)、便携式电子产品、消费电子、网络硬件(服务器等)、医疗仪器、家用电子产品和航空航天及国防等电子设备的EMI屏蔽。 n?6^j8i
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适用于各种塑胶制品的金属屏蔽（PC、PC+ABS、ABS等）。 DsxNg
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EMI溅射镀膜的特点 Z;+;_Cw
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真空技术是结合机械、电机、材料、化工和航太等技术发展出来的产业，亦是目前我国与美、日等国极力推动之十大新兴产业之一。真空技术应用范围日趋广泛，运用对象包括光电、半导体和LCD产业等，近年来尤其在光电、IC和LCD等产业之制造设备，更是成长迅速。 r&v!2A]: 6 ~' I$ s1 W* n& w4 y. G2 a6 i0 f+ v
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9 V; V6 r; L; L. a6 s l0 ?7 Q- BEMI溅射镀膜具有以下特点： 46l*ui_ 7 k- G# X7 ]3 A& O* d' j8 x3 y& r
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价格低（国内拥有自主知识产权的话）。 %>zG;4 * V5 y5 N1 v% ]& e% D/ P( T
真空溅射加工的金属薄膜厚度只有0.5～2μm，绝对不影响装配。 nip*Y@-F * X( g$ V' J9 V8 r1 c! k& m9 S
真空溅射是彻底的环保制程，绝对环保无污染。 _E0yzkS 7 @" t+ `( ^& a
欲溅射材料无限制, 任何常温固态导电金属及有机材料、绝缘材料皆可使用（例：铜、铬、银、金、不锈钢、铝、氧化矽SiO2等）。 =*-a c : `- j& ? A, U/ l4 K) C3 G
被溅射基材几无限制（ABS、PC、PP、PS、玻璃、陶瓷、epoxy resin等）。 6 AY~>p 2 K) Z& E+ e6 M4 }+ l) r
膜质致密均匀、膜厚容易控制。 [<^'}-SJ 2 X0 ^! K, N9 J q; Y; j7 u. l
附著力强（ASTM3599方法测试4B）。 e&(Wn2)o N- ^8 |: A9 T1 q( T, z
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可同时搭配多种不同溅射材料之多层膜。并且，可随客户指定变换镀层次序. ~S :8M<aB |
显身卡
